跟着人们对空间运用的望远镜和相机的光学系统中运用的反射镜功能提出了更高的要求, 在满意轻量化要求的一起, 还要求反射镜资料具有能够在恶劣环境下长期作业的物理特性, 这就提出了低密度 / 高硬度 / 高弹性模量 / 高比刚度 / 低热胀大吸收 / 均匀线线胀系数等极高的参数规范.
反射镜的反射率取决于外表的粗糙度, 因而, 未处理反响烧结碳化硅存在的孔洞和双金属性问题, 遍及选用经过给外表镀制一层厚的硅或许碳化硅的办法, 一到达外表改性的意图.
碳化硅资料凭仗其优异的物理功能和杰出的加工特性成为当时空间运用的首要新式反射镜资料.
离子源辅佐镀膜的薄膜制备工艺已成为一种老练、高效的办法. 霍尔离子源能够终究靠电离惰性气体, 输出离子流密度均匀并具有较高能量的等离子体.
某国内精细光学制造商为了进一步提高碳化硅反射镜基底外表光学质量, 满意高质量空间光学系统的运用需求, 选用电子枪蒸腾纯硅, KRI 霍尔离子源喷出的氢离子电离甲烷, 并以离子辅佐堆积的办法在反响烧结碳化硅基底上镀制了外表改性用碳化硅薄膜, 并对改性膜层进行了光学抛光处理.
在离子源作业之前, 镀膜腔体需要将线 Pa, 该国内精细光学制造商选用普发 Pfeiffer Hipace 80 对镀膜腔体进行抽真空.
伯东美国 KRI离子源和 Pfeiffer分子泵Hipace 80 完成用户的工艺需求. 制造商在该工艺条件下制备的碳化硅薄膜为α相, 经过高分辩光学显微镜对抛光后的反响烧结碳化硅基底进行缺点调查, 发现改性抛光后基底外表缺点和孔洞显着削减.
这种镀制碳化硅外表改性的办法在抛光后能够大大下降外表粗糙度, 而且散射值有了显着的下降, 不到改性之前的1/8. 制备的碳化硅薄膜在冷人温度冲击下很安稳, 无脱膜、龟裂.
伯东是德国Pfeiffer真空泵,检漏仪,质谱仪,真空计, 美国KRI考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国inTEST高低温冲击测试机, 美国 Ambrell感应加热设备和日本 NS离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
